wyszukiwanie zaawansowane ?

Obiekt

Układ i sposób zasilania reaktora plazmowego ze ślizgającym się wyładowaniem : opis patentowy nr 233868

Pobierz

Tytuł: Układ i sposób zasilania reaktora plazmowego ze ślizgającym się wyładowaniem : opis patentowy nr 233868

Twórca:

Krupski, Piotr. ; Stryczewska, Henryka Danuta. ; Nowicki, Maciej

Data wydania:

2019 (wyd. cyfrowe i oryginalne) ; Zgłoszono 29.12.2017. ; Zgłoszenie ogłoszono 01.07.2019 BUP 14/19. ; Opublikowano 31.12.2019 WUP 12/19.

Typ dokumentu:

Opis patentowy

Tytuł oryginału:

PL 233868 B1

Opis:

Układ zasilania reaktora plazmowego ze ślizgającym się wyładowaniem, charakteryzuje się tym, że wejście napięcia stałego połączone jest równolegle z kondensatorem elektrolitycznym połączonym z masą. Wejście napięcia stałego połączone jest szeregowo z przekładnikiem prądowym, który połączony jest z odczepem środkowym uzwojenia pierwotnego transformatora podwyższającego. Transformator podwyższający połączony jest szeregowo początkiem uzwojenia pierwotnego z kolektorem pierwszego łącznika tranzystorowego, który podłączony jest swoim emiterem z masą. Pierwszy przełącznik tranzystorowy połączony jest od strony złącz kolektor-emiter równolegle z diodą, która usytuowana jest anodą w kierunku emitera pierwszego łącznika tranzystorowego i masy. Pierwszy łącznik tranzystorowy połączony jest równolegle z dwiema szeregowymi diodami transil dwukierunkowymi połączonymi z masą. Pierwszy łącznik tranzystorowy połączony jest równolegle z dwójnikiem, składającym się z rezystora połączonego szeregowo z kondensatorem, który podłączony jest z masą. Bramka pierwszego łącznika tranzystorowego połączona jest poprzez diodę transil dwukierunkową do masy. Bramka pierwszego łącznika tranzystorowego połączona jest poprzez rezystor z pierwszym wyjściem sygnału modulacji szerokości impulsu sterownika modulacji szerokości impulsu. Bramka pierwszego łącznika tranzystorowego połączona jest dodatkowo poprzez rezystor z pierwszym łącznikiem tranzystorowym od strony drenu, który podłączony jest od strony źródła z anodą diody szeregowej, której katoda podłączona jest z wyjściem pierwszego sygnału modulacji szerokości impulsu sterownika modulacji szerokości impulsu. Bramka pierwszego łącznika tranzystorowego połączona jest z wyjściem sygnału sterującego sterownika zapłonowego. Transformator podwyższający połączony jest szeregowo końcem uzwojenia pierwotnego z kolektorem drugiego łącznika tranzystorowego, który podłączony jest swoim emiterem z masą. Z kolei drugi łącznik tranzystorowy połączony jest od strony złącz kolektor-emiter równolegle z diodą, która usytuowana jest anodą w kierunku emitera drugiego łącznika tranzystorowego oraz drugi łącznik tranzystorowy połączony jest równolegle z dwiema szeregowymi drugimi diodami transil dwukierunkowymi połączonymi do masy. Drugi łącznik tranzystorowy połączony jest równolegle z dwójnikiem składającym się z rezystora połączonego szeregowo z kondensatorem, który podłączony jest do masy. Bramka drugiego łącznika tranzystorowego połączona jest poprzez diodę transil dwukierunkową do masy oraz bramka drugiego łącznika tranzystorowego połączona jest poprzez rezystor z wyjściem drugiego sygnału modulacji szerokości impulsu, sterownika modulacji szerokości impulsu do masy, zaś bramka drugiego łącznika tranzystorowego połączona jest od strony drenu poprzez rezystor z drugim łącznikiem tranzystorowym, który podłączony jest od strony źródła z anodą diody. Bramka drugiego łącznika tranzystorowego połączona jest z wyjściem sygnału sterującego sterownika zapłonowego. Przekładnik prądowy połączony jest wyjściem sygnałowym ze sterownikiem zapłonowym oraz ze sterownikiem modulacji szerokości impulsu. Uzwojenie wtórne transformatora podwyższającego połączone jest z reaktorem plazmowym.

Wydawca:

Politechnika Lubelska (wyd. cyfrowe) ; Urząd Patentowy Rzeczpospolitej Polskiej (wyd. oryg.)

Współtwórca:

Politechnika Lubelska. Uprawaniony z patentu ; Milczek Tomasz (1950-). Oprac.

Format:

application/pdf

Język:

pol

Powiązania:

Opis zgłoszeniowy wynalazku PL 424119 (A1) 01.07.2019.

Zakres:

H02M 3/335 (2006.01) Int. Cl. ; H05H 1/46 (2006.01) Int. Cl.

Zarządzanie prawami:

Politechnika Lubelska

Tagi:

aw

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

2020-07-20

Data dodania obiektu:

2020-07-20

Liczba wyświetleń treści obiektu:

54

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://bc.pollub.pl/publication/13793

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Nazwa wydania Data
Krupski, Piotr., 2019 (wyd. cyfrowe i oryginalne), Układ i sposób zasilania reaktora plazmowego ze ślizgającym się wyładowaniem : opis patentowy nr 233868 2020-07-20

Podobne

Układ zasilania reaktorów plazmy nietermicznej : opis patentowy nr 180063

Stryczewska, Henryka Danuta Politechnika Lubelska. Uprawaniony z patentu Skrynicki, Wiesław. Oprac.

Zgłoszono 19.11.1996.
Opis patentowy

Technologie plazmowe w energetyce i inżynierii środowiska

Stryczewska, Henryka Danuta

2009 (wyd. oryg.)
książka

Energie odnawialne : przegląd technologii i zastosowań

Stryczewska, Henryka Danuta

2012 (wyd. oryg. i cyfrowe)
książka

Analiza zintegrowanych zasilaczy elektromagnetycznych w urządzeniach wyładowczych

Stryczewska, Henryka Danuta

2010 (wyd. cyfrowe)
książka

Analiza pracy magnetycznego potrajacza częstotliwości jako źródła zasilania odbiornika nieliniowego na przykładzie wytwornicy ozonu

Stryczewska, Henryka Danuta Janowski, Tadeusz. Promotor

2012 (wyd. cyfrowe)
rozprawa doktorska

Elektromagnetyczny układ zasilania reaktorów plazmowych ze ślizgającym się wyładowaniem łukowym

Stryczewska, Henryka Danuta

2010 (wyd. cyfrowe)
książka

Zasilacz plazmotronu do prowadzenia reakcji chemicznych : opis patentowy nr 172152

Janowski, Tadeusz (1933- ) Stryczewska, Henryka Danuta. Politechnika Lubelska. Uprawaniony z patentu Skrynicki, Wiesław. Oprac.

Zgłoszono 06.01.1994.
Opis patentowy

Hybrydowy zasilacz plazmotronu do prowadzenia reakcji chemicznych : opis patentowy nr 172170

Janowski, Tadeusz (1933- ) Stryczewska, Henryka Danuta Skrynicki, Wiesław. Oprac. Politechnika Lubelska. Uprawaniony z patentu

Zgłoszono 09.08.1993.
Opis patentowy
Więcej

Dane kontaktowe

Adres

Biblioteka Politechniki Lubelskiej
ul. Nadbystrzycka 36C
20-618 Lublin

Telefon

(+48) 81 538-4659

E-Mail

j.gajda@pollub.pl

Odwiedź nas!

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji