Wysocka, Krystyna. ; Krukowski, Jerzy ; Kontkiewicz, Jerzy. ; Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego.
1984 (wyd. oryg.) ; 2015 (wyd. cyfrowe)
2015-11-16
2015-11-16
109
93
https://bc.pollub.pl/publication/12494
Nazwa wydania | Data |
---|---|
NB-10096 Klisze fotopolimerowe - Typ PT - Wymagania i badania BN-84/7433-05/02 | 2015-11-16 |
Wysocka, Krystyna. Kontkiewicz, Jerzy. Krukowski, Jerzy Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego.
Wysocka, Krystyna. Kontkiewicz, Jerzy. Krukowski, Jerzy Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego.
Wysocka, Krystyna. Kontkiewicz, Jerzy. Krukowski, Jerzy Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego.
Siemiątkowski, Jan. Kontkiewicz, Jerzy. Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego.
Wysocka, Krystyna Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego
Harmak, Jerzy. Krukowski, Jerzy Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego.
Krukowski, Jerzy Bazela, Wojciech Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego
Krukowski, Jerzy Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego.