Wysocka, Krystyna. ; Kontkiewicz, Jerzy. ; Krukowski, Jerzy ; Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego.
1985 (wyd. oryg.) ; 2015 (wyd. cyfrowe)
Nov 16, 2015
Nov 16, 2015
140
120
https://bc.pollub.pl/publication/12493
Edition name | Date |
---|---|
NB-10095 Klisze fotopolimerowe - Typ PW - Wymagania i badania BN-84/7433-05/01 | Nov 16, 2015 |
Wysocka, Krystyna. Krukowski, Jerzy Kontkiewicz, Jerzy. Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego.
Wysocka, Krystyna. Kontkiewicz, Jerzy. Krukowski, Jerzy Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego.
Wysocka, Krystyna. Kontkiewicz, Jerzy. Krukowski, Jerzy Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego.
Siemiątkowski, Jan. Kontkiewicz, Jerzy. Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego.
Wysocka, Krystyna Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego
Harmak, Jerzy. Krukowski, Jerzy Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego.
Krukowski, Jerzy Bazela, Wojciech Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego
Krukowski, Jerzy Centralny Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego.