Title:

Sposób kształtowania kul metodą kucia półswobodnego w układzie podwójnym : opis patentowy nr 221635

Oryginal title:

PL 221635 B1

Creator:

Pater, Zbigniew ; Tomczak, Janusz

Description:

Sposób kształtowania kul metodą kucia półswobodnego w układzie podwójnym charakteryzuje się tym, że półfabrykat w kształcie odcinka pręta o średnicy mniejszej od średnicy kształtowanej kuli i długości większej od średnicy kształtowanej kuli, umieszcza się na podtrzymce sprężystej pomiędzy matrycą zewnętrzną prawą a matrycą środkową, które na powierzchniach czołowych, położonych naprzeciwko siebie mają wykonane kształtowe wykroje sferyczne - stożkowe, przy czym końce półfabrykatu mają kształt stożkowy o jednakowych kątach rozwarcia stożków, następnie uruchamia się ruch postępowy matrycy środkowej ze stałą prędkością w kierunku matrycy zewnętrznej prawej, w wyniku czego spęcza się półfabrykat w kształtowych wykrojach sferyczno - stożkowych i kształtuje się kulę, po osiągnięciu przez matrycę środkową położenia końcowego umieszcza się półfabrykat na podtrzymce sprężystej pomiędzy matrycą zewnętrzną lewą a matrycą środkową i przełącza się na przeciwny kierunek ruchu matrycy środkowej, którą przemieszcza się ze stałą prędkością w kierunku matrycy zewnętrznej lewej i kształtuje się kulę w kształtowych wykrojach sferyczno - stożkowych, przy czym powierzchnie stożkowe półfabrykatów i jego powierzchnie walcowe bezpośrednio przylegające do powierzchni stożkowych kształtuje się w wykrojach sferyczno - stożkowych.

Publisher:

Politechnika Lubelska (wyd. cyfrowe) ; Urząd Patentowy Rzeczpospolitej Polskiej (wyd. oryg.)

Contributor:

Politechnika Lubelska. Uprawaniony z patentu ; Milczek Tomasz (1950-). Oprac.

Date:

2016 (wyd. cyfrowe) ; Zgłoszono 16.04.2012 ; Zgłoszonie ogłoszono 28.10.2013 BUP 22/13 ; Opublikowano 31.05.2016 WUP 05/16.

Resource Type:

Opis patentowy

Format:

application/pdf

Language:

pol

Relation:

Opis zgłoszeniowy wynalazku PL PL 398830 (A1) 28.10.2013. ; Nr zgłoszenia: 398830.

Coverage:

B21K 1/02 (2006.01) Int. Cl. ; B21J 5/02 (2006.01) Int. Cl. ; B21J 13/02 (2006.01) Int. Cl.

Rights Management:

Politechnika Lubelska

Tags:

aw